產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
該裝置是帶有磁控管目標的金屬涂層裝置。 它用于 8 英寸晶圓等大面積樣品和大量樣品的同步處理。
MSP-8in的目標電極沿目標金屬表面形成多同心磁場，通過將電子捕獲在該磁場中，提高等離子體離子密度以濺射目標金屬。 磁場的強度結構使得粘附的金屬膜的厚度從目標的中心到外圍是均勻的。
詳情介紹：
主要產(chǎn)品規(guī)格
| 項目 | 規(guī)范 |
| 權力 | AC100V（單相100V）15A 3芯插頭，帶地線 |
| 設備大小 |
寬 450 mm，深 400 mm，高 372 mm （設備重量：36.9 kg） |
| 旋轉泵 |
寬234mm，深500mm，高264mm G-101D （重量25kg） |
| 涂裝室尺寸 | 內(nèi)徑230mm，高60mm |
| 目標電極尺寸 | 直徑 200mm |
| 試樣載物臺尺寸 | 直徑 210mm |
| *大樣品尺寸（晶圓） | 直徑 200mm |
| 涂層不均勻 | ± 10% 以下 |
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