產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
本設(shè)備有兩個獨立的腔室，每個腔室具有碳氣相沉積、磁控濺射和親水處理等功能。 一臺設(shè)備配備了我們的 VC-100S、MSP-1S 和 PIB-10 三種型號的性能。 兩根排氣管由外部旋轉(zhuǎn)泵排氣管切換。
此外，每個腔室可以獨立抽真空并釋放大氣，腔室可以保持真空。
詳情介紹：
用
碳氣相沉積 這是一種用于
TEM、SEM、X射線分析等的碳膜生產(chǎn)設(shè)備。 它用于防止樹脂包埋樣品的充電。
離子濺射 這是一種用于
SEM觀察的貴金屬薄膜涂層專用設(shè)備。 進行貴金屬涂層以防止SEM樣品充電，提高二次電子生成效率。 除了磁控管靶電極的低壓放電外，樣品架還由浮動系統(tǒng)制成，以減少由于電子束流入而造成的樣品損壞。
親水處理
用于透射電子顯微鏡的網(wǎng)格網(wǎng)、火棉膠支撐膜、碳支撐膜等金剛石刀具的親水處理，以及用于清洗油污和油漬。
通過交流放電將等離子體離子照射到樣品表面。 它破壞樣品表面的化學(xué)鍵并形成官能團。 因此，活性樣品表面與水分子之間的化學(xué)鍵得到促進，并變得親水。
此外，還可以破壞油脂污漬等化學(xué)鍵，獲得去除污漬的效果。
輻照強度（SOFT/HARD）可以切換。
主要產(chǎn)品規(guī)格
| 項目 | 規(guī)范 |
| 權(quán)力 | AC100V（單相100V15A）3P插頭，帶接地1件 |
| 旋轉(zhuǎn)泵 |
抽水速度：50l/min 重量 ：14.6kg |
| 設(shè)備大小 |
寬 400mm，深 360mm，底座高 280mm 碳 腔高度 +185mm 離子 腔室高度 +101mm （設(shè)備重量：29Kg） |
| 碳氣相沉積側(cè)規(guī)格 | |
| 試樣室尺寸 | 內(nèi)徑 120 mm，高度 140 mm（硬玻璃） |
| 氣相沉積源 - 樣品臺間距 | 直徑50mm（浮動方式） |
| 電極與樣品的間距 | 可在45mm~75mm范圍內(nèi)調(diào)節(jié) |
| 試樣載物臺尺寸 | Φ100毫米 |
| 可加載樣本量 | Φ98 mm，*大樣品高度 40 mm |
| 氣相沉積電源 |
烘烤、排氣、蒸發(fā)。 每個固定電壓的 3 級切換，預(yù)設(shè)為*佳電壓 |
| 離子室側(cè)面規(guī)格 | |
| 試樣室尺寸 | 內(nèi)徑 120 mm，高度 65 mm（硬玻璃） |
| 電極-樣品臺間距 | 35mm固定 |
| 試樣底座尺寸 | Φ50mm（浮動方式） |
| 濺射靶電極 | 內(nèi)置永磁體的磁控管型靶電極 |
| 目標(biāo)金屬規(guī)格 |
Φ51mm，厚度0.1mm Pt，Pt-Pd，Au，Au-Pd，Ag |
| 濺射電源 | DC500V，0~50mA（可變電阻調(diào)節(jié)） |
| 親水處理電極 | Φ50mm，SUS靶材 |
| 親水處理電源 |
軟：450V，10~20mA 硬：550V，20~30mA （可選切換） |
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