TSI美國手動加載 10 nm 顆粒沉積系統(tǒng)2335

TSI美國手動加載 10 nm 顆粒沉積系統(tǒng)2335

這種手動加載的顆粒沉積系統(tǒng)沉積 PSL 和 SiO2小至 10 nm 的球體。通過生成大量高質(zhì)量的定制污染標(biāo)準(zhǔn)品，輕松、自信、高效地校準(zhǔn)和鑒定您的缺陷檢測工具。手動加載允許沉積各種襯底，包括 150 mm、200 mm 和 300 mm 晶圓，支持您的所有晶圓計量應(yīng)用并提高產(chǎn)品良率。

2300G3M 型顆粒沉積系統(tǒng)為在裸片、薄膜和圖案晶圓上沉積粒度標(biāo)準(zhǔn)品（包括 MSP 納米二氧化硅?尺寸標(biāo)準(zhǔn)品）提供了**的性能。2300G3M 使用先進(jìn)的顆粒生成和差分遷移率分析儀 （DMA） 技術(shù)，以亞納米級的可重復(fù)性和 SI 可追溯性控制沉積顆粒的模態(tài)直徑，適用于半導(dǎo)體制造中要求苛刻的計量應(yīng)用。該色譜柱可容納 16 個顆粒懸浮液，DMA 模式作范圍為 10 nm 至 2 μm，幾乎任何檢測工具的校準(zhǔn)曲線都可以使用單個自動配方通過沉積生成。

應(yīng)用

• 可追溯的檢測系統(tǒng)校準(zhǔn)
• 符合傳統(tǒng)晶圓污染標(biāo)準(zhǔn)
• 來料裸晶圓檢驗/鑒定
• 確定專有薄膜的檢測靈敏度
• 橡皮布薄膜監(jiān)測
• 檢測工具開發(fā)和認(rèn)證
• 工藝工具鑒定、工藝學(xué)習(xí)和監(jiān)控

特點和優(yōu)勢

• 完整（毯狀）、點、弧和環(huán)沉積圖案
• 沉積顆粒粒度的**配方控制
• 納米顆粒霧化，用于產(chǎn)生 10nm 的清潔顆粒
• DMA 尺寸分類，用于窄尺寸分布選擇
• *大限度地減少顆粒簇和殘留顆粒
• 沉積圖案寬度的配方控制
• 配方、沉積和懸浮液分析報告
• 人體工程學(xué)設(shè)計
• 全球服務(wù)和支持