產(chǎn)品詳情
簡單介紹:
紫外線照射裝置,在LSI制造生產(chǎn)聯(lián)機使用的紫外線阻劑固化、及電荷消除裝置。
配備超高壓UV燈與EXCIMER燈,應用在提升乾蝕刻時的耐電漿性、離子注入時的阻劑脫氣與燒制、電荷消除、疲乏消除、及 Low-k Cure等各種用途。
詳情介紹:
日本USHIO牛尾紫外線光阻劑硬化/CHARGE ERASE裝置φ12寸
紫外線照射裝置,在LSI制造生產(chǎn)聯(lián)機使用的紫外線阻劑固化、及電荷消除裝置。
配備超高壓UV燈與EXCIMER燈,應用在提升乾蝕刻時的耐電漿性、離子注入時的阻劑脫氣與燒制、電荷消除、疲乏消除、及 Low-k Cure等各種用途。
特征:
- 高照度、均一度照射
- 初期照度是650mw/cm2以上(220~320nm)、且照度均勻度保證在±10%。
- 采用依據(jù)SEMI規(guī)定之裝載接口的EFEM(φ12寸裝置)
- φ12寸用裝置、采用裝載接口(依據(jù)SEMI) 的EFEM、
- 以及搬運系統(tǒng) 采用無塵快速的2Finger搬運機器人、以達到高Throughput。
- 采用WindowsNT PC的高操作性與以GEM300為準(φ12寸裝置)
- φ12寸用裝置采用Windows NT PC,達到**的操作性。亦符合GEM300規(guī)定。
- 燈管裝置更換容易
- 燈管更換時無須調整,并降低裝置的停機時間。
- 配備照度一定方式與積累計算曝光方式(φ12寸裝置:選購配備)
- 使用照度一定方式、并積累計算曝光方式、達到制程的穩(wěn)定化與一致化。
- 豐富的產(chǎn)品系列
- 對應φ6寸用裝置(可與φ5寸以下共用)、φ8寸用裝置( 可與φ6寸以下共用)、
- 以及φ12寸專用裝置等所有工具匣。此外,亦備有準分子(Excimer)燈的φ8寸用裝置。
2Finger搬運機器人
燈光裝置
主要用途:
-
提高乾蝕時的耐電漿性
-
離子注入時的阻劑脫氣及燒入
-
電荷消除與消除疲乏
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Low-k Cure
-
薄膜磁頭之層間絕緣膜形成
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化合物半導體的Lift-Off工程
-
表面改質
-
CCD與CMOS影像儀的去色(bleaching)等
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