具有可選光學(xué)元件的高精度測(cè)角儀

XRD 系統(tǒng)適用于所有薄膜 XRD 應(yīng)用，包括一個(gè) XY 可移動(dòng)載物臺(tái)，用于映射高達(dá) 300 mm 的晶圓。

該系統(tǒng)可確保樣品保持完整，并可以毫無問題地用于其他實(shí)驗(yàn)和分析。 它為您的所有研發(fā)需求提供了*準(zhǔn)確和可靠的結(jié)果。

用于晶圓廠附近應(yīng)用的 XRD 系統(tǒng)映射工具

它可用于改進(jìn)材料分析、加強(qiáng)質(zhì)量控制和優(yōu)化制造流程。

薄膜

• **的厚度和成分
• 晶體信息
• 應(yīng)力和應(yīng)變分析
• 無損表征
• 多層分析
• 先進(jìn)材料開發(fā)

XRR 厚度的專用系統(tǒng)

確定薄膜、涂層和多層結(jié)構(gòu)的厚度、密度和界面粗糙度。

GaAs（004）、立方 GaN（002）、六方 GaN（0004） 表征

**分析晶體取向并控制材料生長(zhǎng)和加工，以實(shí)現(xiàn)電子和光電器件所需的性能。