采用高亮度微 X 射線光源

透射形貌中使用的 Mo 射線源和反射形貌中使用的 Cu 射線源可以通過計算機控制進行切換。

采用特殊的 X 射線鏡光學(xué)系統(tǒng)

具有多層薄膜平行光束準(zhǔn)直器的單色和平行光束。

與晶體準(zhǔn)直器兼容

極其平行的 X 射線束提供對晶格畸變敏感的反射形貌。

易于切換

您可以輕松地從計算機在觀察晶體內(nèi)部的透射形貌圖和觀察表面附近缺陷的反射形貌圖之間切換。

使用高分辨率 X 射線 CCD 相機進行數(shù)字圖像采集。

使用形貌圖圖像的晶體缺陷分析軟件。

支持各種晶圓尺寸。 兼容 3、4、6、8、12 和 18 英寸。

它水平容納樣品，并支持 3 英寸、4 英寸、6 英寸、8 英寸和 12 英寸晶圓的自動輸送。

得益于自動曲率校正機制，即使是彎曲的晶體也可以根據(jù)其曲率進行拍攝。