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產(chǎn)品目錄
產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱(chēng):TSI美國(guó) 帶閥液體流量控制器

  • 產(chǎn)品型號(hào):2950-20V
  • 產(chǎn)品廠商:TSI
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簡(jiǎn)單介紹:
TSI美國(guó)進(jìn)口 帶閥的液體流量控制器 2950-20V TSI美國(guó)進(jìn)口 帶閥的液體流量控制器 2950-20V
詳情介紹:

TSI美國(guó)進(jìn)口 帶閥的液體流量控制器 2950-20V
TSI美國(guó)進(jìn)口 帶閥的液體流量控制器 2950-20V

帶閥液體流量控制器 2950V
型號(hào):2950-01VTurbo? 液體流量控制器 2950V 專(zhuān)為**的微電子應(yīng)用而設(shè)計(jì),可與 MSP 的 Turbo II? 氣化器配合使用,為半導(dǎo)體薄膜沉積工藝(包括 CVD、PECVD、ALD 和 MOCVD)提供****的液體源蒸汽輸送性能。
產(chǎn)品詳情
Turbo? 液體流量控制器 2950V 采用定制設(shè)計(jì)的高精度、高速流量傳感器和精心設(shè)計(jì)的流量控制電子設(shè)備。這些組件提供對(duì)先進(jìn)半導(dǎo)體加工至關(guān)重要的***性能。
精密流量控制
2950 LFC 包含流量傳感器和液體控制電子元件,用于控制 MSP 的 Turbo II? 蒸發(fā)器上的壓電閥。對(duì)于沒(méi)有板載液體控制壓電閥的蒸發(fā)器,可以使用 2950V 系列 Turbo? LFC。
應(yīng)用
半導(dǎo)體薄膜沉積工藝化學(xué)氣相沉積 (CVD)
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 (PECVD)
Atmoic layer deposituion (ALD) (大氣層沉積物 (ALD))
金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積 (MOCVD)
需要頻繁調(diào)整流量的應(yīng)用
特性和優(yōu)勢(shì)
**的流量控制和可調(diào)性
出色的精度和線性度
超快響應(yīng)時(shí)間
**的可重復(fù)性
寬流量范圍選項(xiàng)




提供 Turbo? LFC 型號(hào)

型號(hào) TEOS 滿量程* (g/min) TEMAZr 滿量程 (g/min) H2O 滿量程 (g/min)
2950-002V 0.2 不適用 0.14
2950-01伏 1 0.19 0.73
2950-05V 5 0.95 3.6
2950-10V 10 1.9 7.3
2950-20V 20 3.8 14
2950-30V 30 5.7 21

?使用 TEOS 作為參比液在 23±2°C 下測(cè)定的標(biāo)稱(chēng)*大流量。 流量范圍是指定液體的函數(shù)。


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