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產(chǎn)品目錄
產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:TSI美國 納米顆粒液體顆粒監(jiān)測儀

  • 產(chǎn)品型號:NANO-LPM10
  • 產(chǎn)品廠商:TSI
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡單介紹:
TSI美國進口 納米顆粒液體顆粒監(jiān)測儀 NANO-LPM10 TSI美國進口 納米顆粒液體顆粒監(jiān)測儀 NANO-LPM10
詳情介紹:

TSI美國進口 納米顆粒液體顆粒監(jiān)測儀 NANO-LPM10

TSI美國進口 納米顆粒液體顆粒監(jiān)測儀 NANO-LPM10

Nano LPM 系統(tǒng)
型號:納米 LPM10在半導體超純水 (UPW) 中提供真正的 10 nm 納米顆粒檢測。
產(chǎn)品詳情
TSI Nano LPM? 系統(tǒng)(納米顆粒液體顆粒監(jiān)測儀)用于檢測半導體超純水 (UPW) 中的真正 10 納米 (nm) 納米顆粒。Nano LPM 提供對 UPW 質(zhì)量的持續(xù)監(jiān)控,使工程和質(zhì)量控制人員能夠自信地做出實時、數(shù)據(jù)驅(qū)動的決策。
應對 UPW 監(jiān)測挑戰(zhàn)
超純水用于清潔晶圓和設(shè)備,以及在半導體工藝中蝕刻和去除污染物,以確保高質(zhì)量生產(chǎn)。小至 10 nm 的顆粒會影響產(chǎn)量和產(chǎn)品質(zhì)量,因此納米顆粒的實時檢測至關(guān)重要。行業(yè)挑戰(zhàn)在于,由于顆粒材料的折射率問題和微氣泡的干擾,傳統(tǒng)的基于光學的技術(shù)難以檢測 20 nm 以下的任何納米顆粒,這可能導致讀數(shù)錯誤和不一致。TSI 的納米 LPM? 系統(tǒng)通過可靠地檢測低至 10 nm 的納米顆粒來克服這些挑戰(zhàn),提供一致、實時的洞察力,這對于檢測 UPW 質(zhì)量的任何變化至關(guān)重要。
**技術(shù) — 霧化顆粒
Nano LPM 通過在 10 nm 處提供可靠、一致和準確的顆粒監(jiān)測數(shù)據(jù),為 UPW 納米顆粒監(jiān)測樹立了新標準。Nano LPM? 系統(tǒng)使用獲得**的粒子發(fā)生器,在干燥留下固體納米顆粒的液滴之前,該發(fā)生器會對 UPW 進行霧化處理。然后使用專為潔凈室環(huán)境設(shè)計的納米 LPM 水基冷凝粒子計數(shù)器 (CPC) 分析納米顆粒。
主要優(yōu)勢
TSI Nano LPM? 系統(tǒng)提供了多種**功能,以應對半導體制造商面臨的挑戰(zhàn):
使半導體制造商能夠在產(chǎn)品質(zhì)量受到影響之前采取主動的數(shù)據(jù)驅(qū)動型行動,確保低至 10 nm 的可靠檢測
使用更能代表 UPW 污染的二氧化硅尺寸標準品進行校準
使用多臺儀器時可重復的 10 nm 測量 — 對于維護過程控制和在多個位置表征過程至關(guān)重要
確保可靠的性能 — 由于相對折射率的差異,或氣泡和光學表面污染造成的錯誤計數(shù),顆粒檢測不會產(chǎn)生不確定性。
專為半導體和潔凈室環(huán)境而設(shè)計 — Nano LPM CPC 利用 UPW 作為工作流體,確保其不是污染源
使用機載進樣口對儀器靈敏度和響應率進行獨特的現(xiàn)場驗證
安裝位置
查看應用說明 CC-133:TSI Nano LPM 系統(tǒng)的 UPW 監(jiān)測位置(查看美國 |查看 A4)了解半導體制造廠 (FAB) 中安裝的各種監(jiān)控位置,以使用 Nano LPM? 系統(tǒng)增強過程控制。



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