*高加熱溫度200℃的小型氣體加熱器。
特點(diǎn)
- 面間距160㎜×長(zhǎng)度55㎜的緊湊型設(shè)計(jì)
- 可將10SLM的N2加熱至200℃
- 接觸氣體部分接采用SUS316L不銹鋼材質(zhì)，可加熱對(duì)其無(wú)腐蝕性的氣體
- 真空、加壓條件下也可使用
使用范例
ALD、CVD設(shè)備的熱吹掃
液化氣體通常用于ALD(原子層沉積)和CVD(化學(xué)氣相沉積)等真空沉積工藝，但用室溫氣體吹掃會(huì)發(fā)生冷卻、冷凝的現(xiàn)象，從而使吹掃效果大打折扣。熱吹掃則有效解決了這一問題。小型氣體加熱器HX-0020系列的的空間面積與MFC所差無(wú)幾，且*高加熱溫度為200℃，可對(duì)使用端(POU)附近的氣體進(jìn)行加熱，因此成為了ALD和CVD等真空沉積設(shè)備熱吹掃工藝的理想選擇。
規(guī)格表
| 流量(N2換算) | 壓力損失(N2) | 耐壓(G) | 使用溫度 | 接觸氣體部分材質(zhì) | |
| 規(guī)格 | 10SLM | 14kPa | 1MPa | 200℃ | SUS316L不銹鋼 |
