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SHINKUU真空設(shè)備碳沉積設(shè)備 該設(shè)備使用旋轉(zhuǎn)泵進行碳沉積，同時使用 Pirany 真空計監(jiān)測真空度。 通過不斷蒸發(fā)一定量的碳，可以實現(xiàn)高度可重復的碳沉積。 請使用專用的 SLC-30 替換芯作為碳源。 查看詳情
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SHINKUU真空設(shè)備清潔高真空沉積系統(tǒng) 樣品制備的下一步從清潔的高真空開始。 這是一種使用渦輪分子泵 （TMP） 排氣系統(tǒng)的清潔高真空沉積系統(tǒng)。 高真空有助于提高薄膜純度和密度。 如果按下觸摸面板上的 EVAC START 按鈕，系統(tǒng)會自動執(zhí)行從預排氣到高真空排氣的狀態(tài)。 它是一種**設(shè)計，可通過觸摸屏+程序控制防止操作錯誤。 查看詳情
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SHINKUU真空設(shè)備型臺式高真空沉積系統(tǒng) VE-2013 是一種簡化的真空沉積系統(tǒng)，繼承了 VE-2030（由我們公司制造）的概念。 緊湊的外殼，外殼中內(nèi)置 TMP。 由于它是桌面類型，因此不會占用太多空間。 RP 是落地式安裝的。 查看詳情
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SHINKUU真空設(shè)備磁控降低污染物附著力 該設(shè)備將 TEM 支架存放在無油真空下。 通過使用該設(shè)備，可以顯著降低污染物的附著力。 它存放在單獨的真空室中，可以單獨進出。 TEM 支架端口是根據(jù)您使用的 TEM 支架制造的。 查看詳情
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SHINKUU真空設(shè)備自動涂裝功能凱焊機 配備大面積樣品臺，支持12英寸晶圓。 磁控管系統(tǒng)用于減少涂層電壓為500V或更低時的離子損傷。 自動涂裝功能從脫氣到常壓氣體引入和涂裝都是全自動的。 它配備了一個向前滑動的樣品臺，便于裝卸樣品。 通過附著Ag靶材，可以很容易地對透明薄膜進行光澤處理。 查看詳情
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SHINKUU真空設(shè)備自動涂裝功能凱焊機 配備大面積樣品臺，支持12英寸晶圓。 磁控管系統(tǒng)用于減少涂層電壓為500V或更低時的離子損傷。 自動涂裝功能從脫氣到常壓氣體引入和涂裝都是全自動的。 它配備了一個向前滑動的樣品臺，便于裝卸樣品。 通過附著Ag靶材，可以很容易地對透明薄膜進行光澤處理。 查看詳情
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SHINKUU日本真空設(shè)備鉑金屬涂層裝置 該裝置是帶有磁控管目標的金屬涂層裝置。 它用于 8 英寸晶圓等大面積樣品和大量樣品的同步處理。 MSP-8in的目標電極沿目標金屬表面形成多同心磁場，通過將電子捕獲在該磁場中，提高等離子體離子密度以濺射目標金屬。 磁場的強度結(jié)構(gòu)使得粘附的金屬膜的厚度從目標的中心到外圍是均勻的。 查看詳情
